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  • 微納電路反應(yīng)離子蝕系統(tǒng)RIE150 產(chǎn)品型號:RIE150
    微納電路反應(yīng)離子蝕系統(tǒng)
詳細(xì)內(nèi)容

基本參數(shù)

1,、刻蝕尺寸:6吋及以下,;

2、刻蝕材料:單晶硅,、多晶硅,、SiO2,、Si3N4GaN,、GaAs等,;

3、刻蝕速率:0.01~1μm/min,;

4,、刻蝕距離調(diào)節(jié):10mm~ 60mm

5,、操作方式:全自動控制方式,;

6、系統(tǒng)總控:人機(jī)界面及控制程序,;

7,、電源:220VAC/50Hz10KW,;

8,、機(jī)器重量:1000kg

9,、機(jī)器尺寸:  D810mm× W2020mm×H1550mm,。

 

電源及刻蝕反應(yīng)室

1、調(diào)頻電源:13.56MHz,,1.0KW,;

2、反應(yīng)室:雙室,,上蓋自動啟閉,,操作方便,;

3、反應(yīng)室規(guī)格:Φ300110mm,;

4,、真空度:≤2×10-4 Pa(腔體充分烘烤除氣,去濕后),;

5,、抽氣時(shí)間:系統(tǒng)充干燥 N2解除真空后短時(shí)暴露,大氣壓~ 5×10-3 Pa 時(shí)間≤ 20min,。

 

真空測量系統(tǒng)及氣體配置

1,、真空計(jì):數(shù)顯復(fù)合真空計(jì) 21套,測量低真空和高真空,;

2,、供氣:N2O2 ,、CF4,、CHF3SF6以及壓縮空氣,,進(jìn)氣壓力 0.40.6Mpa,,工藝氣體純度為:99.999

 

冷卻系統(tǒng)

1、配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng),;

2,、保護(hù)系統(tǒng):對泵、電極等缺水等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù),。

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