- 您當(dāng)前的位置是:首頁 >微電子與集成電路 > 集成電路及微電子制造
- 集成電路及微電子制造
-
-
微納電路反應(yīng)離子蝕系統(tǒng)RIE150
產(chǎn)品型號:RIE150
微納電路反應(yīng)離子蝕系統(tǒng)
- 詳細(xì)內(nèi)容
-
基本參數(shù)
1,、刻蝕尺寸:6吋及以下,;
2、刻蝕材料:單晶硅,、多晶硅,、SiO2,、Si3N4、GaN,、GaAs等,;
3、刻蝕速率:0.01~1μm/min,;
4,、刻蝕距離調(diào)節(jié):10mm~ 60mm;
5,、操作方式:全自動控制方式,;
6、系統(tǒng)總控:人機(jī)界面及控制程序,;
7,、電源:220VAC/50Hz,10KW,;
8,、機(jī)器重量:1000kg;
9,、機(jī)器尺寸: D810mm× W2020mm×H1550mm,。
電源及刻蝕反應(yīng)室
1、調(diào)頻電源:13.56MHz,,1.0KW,;
2、反應(yīng)室:雙室,,上蓋自動啟閉,,操作方便,;
3、反應(yīng)室規(guī)格:Φ300′110mm,;
4,、真空度:≤2×10-4 Pa(腔體充分烘烤除氣,去濕后),;
5,、抽氣時(shí)間:系統(tǒng)充干燥 N2解除真空后短時(shí)暴露,大氣壓~ 5×10-3 Pa 時(shí)間≤ 20min,。
真空測量系統(tǒng)及氣體配置
1,、真空計(jì):數(shù)顯復(fù)合真空計(jì) 21套,測量低真空和高真空,;
2,、供氣:N2、O2 ,、CF4,、CHF3、SF6以及壓縮空氣,,進(jìn)氣壓力 0.4~0.6Mpa,,工藝氣體純度為:99.999﹪
冷卻系統(tǒng)
1、配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng),;
2,、保護(hù)系統(tǒng):對泵、電極等缺水等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù),。