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基本參數(shù)

1,、可鍍尺寸：4吋及以下,；

2,、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)：自轉(zhuǎn)速度0～20轉(zhuǎn)/分,，可加熱,；

3,、靶基距：調(diào)節(jié)襯底與靶材間距,，調(diào)節(jié)量為50mm,；

4,、操作方式：半自動(dòng)操作方式,；

5、系統(tǒng)總控：人機(jī)界面及控制程序,；

6,、電 源：220VAC/50Hz，7KW,；

7,、機(jī)器重量：600kg；

8,、機(jī)器尺寸: D810mm× W1820mm×H1850mm,。

磁控電源及濺射鍍膜室

1、磁控靶：≥2英寸永磁靶2套,，靶頭角度0-25°可調(diào),，配置靶擋板；

2,、靶工作模式：?jiǎn)伟袨R射,，2靶共濺，2靶交替濺射,；

3,、磁控電源：帶射頻電源和直流電源各1套,；

4、真空室：圓柱形304不銹鋼,，前開(kāi)門(mén)D 型腔體,；

5、極限真空：5.0×10-5Pa;

6,、工作真空：7.0×10-4Pa;

7,、抽氣時(shí)間：大氣壓~3*10-4 Pa≤40min；

8,、恢復(fù)工作真空時(shí)間：≤35分鐘左右（新設(shè)備充干氮?dú)猓?

9,、漏率：關(guān)機(jī)12小時(shí)真空度≤10Pa。