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1,、適用晶圓尺寸：8吋及以下,；

2,、對準(zhǔn)及套刻精度：±500nm,；

3,、直寫速度(mm²/min)：≥40@1μm,；

4,、光刻光源波長：405nm,；

5,、光刻光源功率：960mW,；

6、數(shù)據(jù)格式：GDSII,、BMP,、DXF；

7,、曝光模式：步進(jìn)式曝光,、灰度曝光 ,、激光拖曳曝光；

8,、線性位移電機(jī)步進(jìn)精度：≤100nm,；

9、運(yùn)動軸：配備 X,、Y,、Z 三維直流線性位移電機(jī)，運(yùn)動平臺具有X/Y/θ方向,；

10,、電源：AC220V/50Hz，800W,；

11、機(jī)器重量：750kg,；

12,、機(jī)器外形尺寸：D1140mm×W780mm×H1812mm。