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- 集成電路及微電子制造
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氧化擴(kuò)散爐OXF200
產(chǎn)品型號:OXF200
氧化擴(kuò)散爐
- 詳細(xì)內(nèi)容
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1,、尺寸:8英寸圓片,,向下兼容6、4、2英寸
2,、產(chǎn)量:1~ 60 片/批
3,、工藝類型:可滿足干氧氧化、濕氧氧化、氫氧合成氧化,、擴(kuò)散等
4、溫度控制范圍:700℃~1250℃
5,、溫控區(qū)長度:600 mm~800mm
6,、溫控精度:≤±0.5℃(700℃~1250℃)
7、單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性:≤±0.5℃/24h(1100℃),;
8,、爐體升降溫速率:最大升溫速率15℃/分鐘;
9,、氣體管路:流量計(jì)控制工藝氣體流量,,保護(hù)氣體由浮子流量計(jì)控制;
10,、推舟方式:全自動送舟機(jī)構(gòu),;
11、舟數(shù)量:3個(gè),;
12、保護(hù)功能:具有超溫,、斷偶,、熱偶短路、氣體流量偏差報(bào)警和保護(hù)功能,;
13,、工藝控制:工藝過程由工控計(jì)算機(jī)全自動控制,存儲不少于 100條工藝曲線,;
14,、電源:380VAC/50Hz,120KW,;
15,、重量:3500Kg;
16,、機(jī)器外形尺寸:W5000mm×H2300mm×D1300mm,。
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